21世纪经济报道记者 张赛男 上海报道  最近备受热议的中国光刻工厂的消息被官方证伪，资本对光刻机概念的关注还在持续。

近期，在沪深投资者互动平台上，有关光刻机的提问涌向各家上市公司。与此同时，部分公司股价异动引发监管关注。

随着消息披露越多，相关上市公司所谓“光刻机”概念也显出浑水摸鱼之嫌。

多家公司收关注函

9月14日，苏大维格（300331.SZ）午间于互动易回复投资者提问时表示“公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”，并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”。

彼时，市场上正在热议国产光刻工厂方案，上述回复无异于是一种推波助澜。午间开盘后，公司股价大幅拉升并触及“20cm”涨停。

9月15日，苏大维格就收到深交所关注函，被要求说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距等。截至目前，苏大维格还未对关注函进行回复。

同样收到关注函的有蓝英装备（300293.SZ），公司股价于9月13日“20CM”涨停。在此之前，公司股价已经连续多日上涨。

12日晚间，蓝英装备收到深交所关注函。监管指出，公司在互动易平台答复投资者提问称“公司精密清洗业务的芯片行业企业客户包括光刻机制造机企业的合资（参股）公司”。要求其说明用于光刻机行业产品的主要技术特征、技术优势、生产研发团队、在手订单、毛利率、在核心客户供应链体系中的具体定位和价值占比，并结合同行业可比公司情况、行业竞争格局、你公司相关产品的市场占有率及占核心客户同类产品采购的份额等，进一步分析说明上述产品对你公司业绩是否具有重大影响。

高盟新材（300200.SZ）股价也连日上涨，近日，记者注意到公司在互动平台回复称，参股公司北京科华拥有ASML光刻机，也已经量产半导体光刻胶，且其半导体光刻胶也已经进入下游头部客户。

大族激光（002008.SZ）回复，公司光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率3-5μm，公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划，并加大研发核心部件国产化。

更多的公司则撇清与热点的关联，必创科技、胜宏科技、联创电子、新金路、帝尔激光、迈为股份、特发信息等纷纷澄清没有光刻机相关产品或参与相关研发。

苏大维格：“此光刻机非彼光刻机”

从目前光刻机概念板块来看，两家股价涨幅较大的公司均受到了监管关注。但如细品其相关回应，其所指的光刻机业务或较为朦胧，或是“此光刻机非彼光刻机”。

截至目前，苏大维格虽还未回复关注函。但其此前在互动平台上的回复就对光刻机进行了一番科普。

据其介绍，光刻机主要有两种类型，第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。

众所周知，就中国的半导体产业链而言，被“卡脖子”的是第一种，既ASLM限制出口的半导体设备。

而苏大维格的产品是第二类，其对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，并且主要应用于科研教育领域。公司坦言，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距。纳米压印光刻领域设备主要为自用，对外销售金额相对较小；投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。

而翻开苏大维格2022年年报，其主要营收来源为微纳光学产品，生产该产品会用到自主研发微纳光学关键制造设备――光刻机，产出的产品则是公共安全材料、新型印刷材料、导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组和特种装饰膜等产品。和芯片生产所用的光刻机显然并非同一种类。

进一步来看，其所用到的自研光刻设备属于高端智能装备事业群，按业务分类，去年设备业务营收占比仅占公司总营收的0.51%。产品销往“出货日本、韩国、以色列”，是指直写光刻设备已出货这些地区的高校和科研院所，用于科研光刻设备领域。

对芯片客户的销售，记者注意到，或是公司销售了相关器件。其在年报提到，在光刻机关键器件方面，公司已向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件。

蓝英装备：不参与设备生产

翻开蓝英装备2022年年报，若以“光刻”二字搜索，记者并未检索到相应关键词。

蓝英装备主营业务是工业清洗系统及表面处理业务和智能装备制造业务两个板块。前者主要下游客户为电子、通讯、机械、医疗、光学、汽车等行业。智能装备制造业务有橡胶智能装备、数字化工厂和电气自动化业务及集成三个部门。从下游应用来看，前者清洁业务或与光刻业务能有所关联。

进一步来看，该业务中有一项为精密清洗业务板块，消费电子行业是精密清洗设备的主要下游市场。在一项“高纯度行业清洗技术及设备开发”研发描述中，其称是面向半导体生产设备、激光系统、科学仪器、 光学器件等行业中的高纯度清洗需求而提供的系统解决方案。

进一步研读蓝英装备最新回复函，记者没有发现其对应用的光刻机行业产品有进一步描述，也并未指出应用的光刻机产品的具体类型。对于关注函所提出的要求公司补充说明用于光刻机行业产品的在手订单、毛利率等情况，蓝英装备也未直接说明。

不过，蓝英装备透露，公司并不参与设备生产，定位是一个解决方案提供商。其称，公司根据相关用户对其设备相关零部件的清洁度和精密度需求，提供相应的清洗设备和解决方案。但在相关用户的整个项目中，公司并不直接参与其相关设备的生产制造。在相关客户设备生产制造的整个价值链中，对比相关客户的设备产品的价值，从金额上看公司相关设备占比较小。

国产化任重道远

据华金证券，从提供光刻机类别层面分析，ASML为EUV光刻机唯一供应商，ASML与Nikon均可提供ArFi、ArF光刻机。根据各公司官网数据统计，2022年ASML、Cannon、Nikon光刻机销量分别为345、176、38台，ASML光刻机销量远超其余两家之和，为Cannon、 Nikon合计销量1.6倍。

从国内半导体产业链来看，设备环节一直是较为薄弱的环节，国产化迫在眉睫，这也是光刻机消息能引发市场炒作的根本逻辑。不过，就现状来看，国产化仍任重道远。

分析人士指出，就目前国内主要半导体设备国产化率情况而言，刻蚀设备、薄膜设备、清洗设备技术要求较低，国产突破较早，但光刻机、涂胶显影、离子注入、探针台等仍是尚未完全量产的产品，目前技术水平仍停留在研发及提升技术方面。

就国产化进度来看，据华金证券，在光刻机产业链中，国内在双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面均有企业相继研发成功。其援引半导体产业纵横报道，在双工件台方面，华卓精科打破ASML在光刻机工件台上技术垄断，成为世界上第二家掌握双工件台核心技术公司；在光源方面，科益虹源可自主研发设计生产高能准分子激光器，填补中国在准分子激光技术领域空白，目前已完成6kHZ、60w主流ArF光刻机光源制造；在光学镜头方面，奥普光学提供镜头可做到90纳米；在光刻机整机生产方面，上海微电子90nm光刻机已获得突破，正在攻关28nm DUV光刻机，仍待交付。